在美国对中（共）国高端芯片技术封锁加剧之际，深圳新凯来产业机械（SiCarrier Industry Machines）声称突破瓶颈，其新研发的半导体设备有望助中（共）国实现5奈米制程。然而中媒却唱衰，专利不等于量产，技术成熟度仍待验证。

在《SEMICON China2025》展会上，这家国企背景的新凯来备受瞩目，展示31套以山命名的设备，宣称覆盖7奈米至5奈米光刻技术。董事长戴军表示，受限于美国禁令，中国无法获取极紫外光（EUV）设备，但新凯来利用多重图案化（Multi-patterning）技术，结合深紫外光（DUV）与“自对准四重图案化”（Self-aligned Quadruple Patterning, SAQP）工艺，可逼近5奈米指标，成本更低。该技术已于2023年底获中国知识产权局专利认证。

分析师认为，新凯来设备或为中（共）国5奈米制程提供替代路径。内部人士透露，其设备已获中芯国际（SMIC）与华为采用。然而，戴军坦言，多重图案化增加约20%制程步骤，良率面临挑战。中媒则指出，展会仅见技术说明与模型，未见实机，质疑其可信度，称“专利到量产还有十万八千里”。

市场传出，来自深圳新凯来将突破美国的技术封锁，其本土芯片制造设备可望助中国突破5奈米技术瓶颈。（示意图，路透）

公开资料显示，新凯来成立于2022年，母公司新凯来科技由深圳政府基金于2021年全资设立。2024年12月，其被美国商务部列入140家中国芯片企业黑名单。突破若属实，将是中国半导体“国产替代”的关键一步，但前景仍存争议。